西电新闻网讯（通讯员 史学芳）应威廉希尔中文网站材料分析实验室的邀请，德国联邦材料研究与测试研究所(BAM)晶体学家Dr. Gert Nolze于2013年10月25至26日来西电进行学术交流访问。10月25日上午，Gert Nolze博士在西大楼四楼会议室为广大师生做了题为“EBSD fundamentals and challenges in the investigation of semiconductor materials”的学术报告，会议由威廉希尔中文网站筹备小组马晓华教授主持。
       
         EBSD (Electron Back-Scattered Diffraction)是对材料进行微区相分析的一种重要方法，在金属、合金、陶瓷以及半导体材料的研究中已经得到了广泛应用。Dr. Gert Nolze简要介绍了EBSD技术，详细列举了很多自己多年来在多种材料研究领域应用的经典实例，并耐心回答了同学们的问题。学术报告内容翔实，题材新颖，开阔了师生们的学术视野，受到大家的热烈欢迎。

 
            
    
 
        25日下午，Dr. Gert Nolze在材料分析实验室，对石墨烯生长衬底材料的EBSD测试分析进行了具体应用指导，探讨了这项技术在多种半导体材料表征分析中的测试方法、制样技巧以及测试分析条件的优化等问题。

        Dr. Gert Nolze是一位晶体学家，现在联邦德国材料研究与测试研究所工作，是“扫描电镜中材料的局部相分析及微观结构表征”研究组的负责人。Dr. Gert Nolze 在Leipzig University读博士学位时主修晶体学，其博士论文是“利用kossel衍射对非中心对称晶体的系统表征”。

        1990年开始至今，他在德国联邦材料研究与测试研究所工作，工作之余，他还发明了PowderCell软件，这是一个x-射线衍射模拟的免费软件，至今还是研究领域中浏览并下载次数最多的软件之一。2000年开始，其研究方向转向EBSD，主要研究课题“扫描电镜中微观结构的EBSD表征”获得了德国的研究基金。作为德国EBSD的发起人及负责人，每年他都组织德国的EBSD年会,年会的主要方向是对EBSD的方法进行讨论，并为从事EBSD工作的技术员及工程师提供互相交流经验及信息的平台。目前其主要研究方向为如何对EBSD分析技术进行简单化以及探索EBSD新方法等方面。